FD ISO/TR 22335 : 2008 FD
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SURFACE CHEMICAL ANALYSIS - DEPTH PROFILING - MEASUREMENT OF SPUTTERING RATE: MESH-REPLICA METHOD USING A MECHANICAL STYLUS PROFILOMETER
12-01-2013
Avant-propos
Introduction
1 Domaine d'application
2 Termes et définitions
3 Symboles et abréviations
4 Principe
5 Mode opératoire
5.1 Création du motif répétitif
5.2 Mesurage de la profondeur du cratère de
pulvérisation à l'aide d'un profilomètre
à stylet mécanique
5.3 Estimation de la vitesse de pulvérisation
6 Résumé des résultats de l'essai interlaboratoires
Annexe A (informative) Géométrie de la surface de
l'échantillon et du canon à ions
Annexe B (informative) Motifs répétitifs en fonction de
la taille de l'ouverture de maille
Bibliographie
Le présent Rapport technique décrit une méthode de détermination des vitesses de pulvérisation d'ions pour les mesurages de profil en profondeur par spectroscopie des électrons Auger (AES) et spectroscopie de photoélectrons par rayons X (XPS), lorsque l'échantillon subit une pulvérisation d'ions sur une surface comprise entre 0,4 mm[2] et 3,0 mm[2]. Le présent Rapport technique n'est applicable qu'à un matériau latéralement homogène en volume ou à un matériau monocouche pour lequel la vitesse de pulvérisation est déterminée à partir de la profondeur pulvérisée, mesurée par un profilomètre à stylet mécanique, et de la durée de pulvérisation. Une méthode est fournie pour convertir la durée de pulvérisation d'ions en profondeur pulvérisée dans un profil en profondeur, en supposant une vitesse de pulvérisation constante. La méthode n'a pas été conçue, ni testée, pour être utilisée avec un microscope en champ proche. Elle n'est pas applicable lorsque la surface pulvérisée est inférieure à 0,4 mm[2] ou lorsque la rugosité induite par la pulvérisation est significative en comparaison de la profondeur pulvérisée à mesurer.
DevelopmentNote |
Indice de classement: X21-063FD. FD ISO/TR 22335 July 2008. (07/2008)
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DocumentType |
Miscellaneous Product
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PublisherName |
Association Francaise de Normalisation
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Status |
Current
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Standards | Relationship |
ISO/TR 22335:2007 | Identical |
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