NF EN 1993-1-5 : 2007 AMD 1 2017

Avant-propos
1 Introduction
   1.1 Domaine d'application
   1.2 Références normatives
   1.3 Termes et définitions
   1.4 Symboles
2 Bases du calcul et modélisation
   2.1 Généralités
   2.2 Modèles de largeur efficace pour l'analyse globale
   2.3 Effets du voilement de plaque sur des éléments
       uniformes
   2.4 Méthode des contraintes réduites
   2.5 Éléments non uniformes
   2.6 Éléments à âmes plissées
3 Effets du traînage de cisaillement dans le calcul
   des éléments
   3.1 Généralités
   3.2 Largeur efficaces pour le traînage de cisaillement
       élastique
       3.2.1 Largeur efficace
       3.2.2 Répartition des contraintes pour le traînage
             de cisaillement
       3.2.3 Effets de l'application de charges dans le plan
   3.3 Traînage de cisaillement aux états limites ultimes
4 Effets du voilement de plaque sous contraintes normales à
   l'état limite ultime
   4.1 Généralités
   4.2 Résistance aux contraintes normales
   4.3 Section transversale efficace
   4.4 Plaques sans raidisseurs longitudinaux
   4.5 Plaques avec raidisseurs longitudinaux
       4.5.1 Généralités
       4.5.2 Comportement de type plaque
       4.5.3 Comportement de type poteau
       4.5.4 Interpolation entre le voilement de plaque et
             le flambement
   4.6 Justification
5 Résistance au cisaillement
   5.1 Base de calcul
   5.2 Résistance de calcul
   5.3 Contribution de l'âme
   5.4 Contribution des semelles
   5.5 Justification
6 Résistance aux forces transversales
   6.1 Base de calcul
   6.2 Résistance de calcul
   6.3 Longueur d'appui rigide
   6.4 Coefficient réducteur XF de longueur efficace pour
       la résistance
   6.5 Longueur chargée efficace
   6.6 Justification
7 Interaction
   7.1 Interaction entre le cisaillement, le moment
       fléchissant et l'effort normal
   7.2 Interaction entre la force transversale, le
       moment fléchissant et l'effort normal
8 Voilement induit par la semelle
9 Raidisseurs et dispositions constructives
   9.1 Généralités
   9.2 Contraintes normales
       9.2.1 Exigences minimales relatives aux raidisseurs
             transversaux
       9.2.2 Exigences minimales relatives aux raidisseurs
             longitudinaux
       9.2.3 Assemblages de plaques
       9.2.4 Découpes au niveau des raidisseurs
   9.3 Cisaillement
       9.3.1 Montant d'extrémité rigide
       9.3.2 Raidisseurs agissant en qualité de montant
             d'extrémité non rigide
       9.3.3 Raidisseurs transversaux intermédiaires
       9.3.4 Raidisseurs longitudinaux
       9.3.5 Soudures
   9.4 Charges transversales
10 Méthode des contraintes réduites
Annexe A (informative) Calcul des contraintes critiques pour
         les plaques raidies
   A.1 Plaque orthotrope équivalente
   A.2 Contrainte critique de voilement pour les plaques
       comportant un ou deux raidisseurs dans la zone
       comprimée
       A.2.1 Méthode générale
       A.2.2 Modèle simplifié utilisant une barre
             comprimée maintenue par la plaque
   A.3 Coefficients de voilement par cisaillement
Annexe B (informative) Éléments non uniformes
   B.1 Généralités
   B.2 Interaction entre voilement et déversement
Annexe C (informative) Calculs parla méthode des éléments
         finis (EF)
   C.1 Généralités
   C.2 Utilisation
   C.3 Modélisation
   C.4 Choix du logiciel et documentation
   C.5 Utilisation des imperfections
   C.6 Propriétés des matériaux
   C.7 Charges
   C.8 Critères relatifs aux états limites
   C.9 Coefficients partiels
Annexe D (informative) Éléments avec âmes plissées
   D.1 Généralités
   D.2 État limite ultime
       D.2.1 Résistance au moment fléchissant
       D.2.2 Résistance au cisaillement
       D.2.3 Exigences relatives aux raidisseurs d'extrémité
Annexe E (normative) Méthode alternatives pour déterminer
         les sections efficaces
   E.1 Aires efficaces pour des contraintes en deçà de la
       limite d'élasticité
   E.2 Aires efficaces pour la rigidité

Gives design requirements of stiffened and unstiffened plates which are subject to inplane forces.