NF ISO 14606 : 2008
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SURFACE CHEMICAL ANALYSIS - SPUTTER DEPTH PROFILING - OPTIMIZATION USING LAYERED SYSTEMS AS REFERENCE MATERIALS
12-01-2013
1 Domaine d'application
2 Termes et définitions
3 Symboles et termes abrégés
4 Paramètres de réglage pour le profil en profondeur par
pulvérisation
5 Résolution en profondeur à une interface idéalement
abrupte pour les profils en profondeur par pulvérisation
6 Procédures pour l'optimisation des réglages des
paramètres
Annexe A - Facteurs influençant la résolution en profondeur
Annexe A.1 - Généralités
Annexe A.2 - Paramètres de pulvérisation
Annexe A.3 - Paramètres de mesure
Annexe A.4 - Considérations expérimentales
Annexe B - Systèmes monocouches typiques comme
matériaux de référence
Annexe C - Systèmes multicouches typiques utilisés comme
matériaux de référence
Annexe D - Utilisations de systèmes multicouches
Annexe D.1 - Vitesses relatives de pulvérisation
Annexe D.2 - Dépendance de la résolution en profondeur
Annexe D.3 - Dérive du courant du faisceau d'ions
Bibliographie
La présente Norme internationale donne des lignes directrices sur l'optimisation des paramètres de profilage en profondeur par pulvérisation à l'aide de matériaux mono- et multicouches de référence appropriés affin d'atteindre une résolution en profondeur optimale en fonction des paramètres de l'instrument en spectroscopie des électrons Auger, en spectroscopie de photoélectrons par rayons X et en spectrométrie de masse des ions secondaires. La présente Norme internationale n'est pas prévue pour couvrir l'utilisation de systèmes multicouches spéciaux tels que des couches dopées delta.
DevelopmentNote |
Indice de classement: X21-062. PR NF ISO 14606 September 2007. (09/2007)
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DocumentType |
Standard
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PublisherName |
Association Francaise de Normalisation
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Status |
Current
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Standards | Relationship |
ISO 14606:2015 | Identical |
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