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NF ISO 14606 : 2008

NF ISO 14606 : 2008

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The latest, up-to-date edition.

SURFACE CHEMICAL ANALYSIS - SPUTTER DEPTH PROFILING - OPTIMIZATION USING LAYERED SYSTEMS AS REFERENCE MATERIALS

Published date

12-01-2013

Publisher

Association Francaise de Normalisation

1 Domaine d'application
2 Termes et définitions
3 Symboles et termes abrégés
4 Paramètres de réglage pour le profil en profondeur par
  pulvérisation
5 Résolution en profondeur à une interface idéalement
  abrupte pour les profils en profondeur par pulvérisation
6 Procédures pour l'optimisation des réglages des
  paramètres
Annexe A - Facteurs influençant la résolution en profondeur
Annexe A.1 - Généralités
Annexe A.2 - Paramètres de pulvérisation
Annexe A.3 - Paramètres de mesure
Annexe A.4 - Considérations expérimentales
Annexe B - Systèmes monocouches typiques comme
           matériaux de référence
Annexe C - Systèmes multicouches typiques utilisés comme
           matériaux de référence
Annexe D - Utilisations de systèmes multicouches
Annexe D.1 - Vitesses relatives de pulvérisation
Annexe D.2 - Dépendance de la résolution en profondeur
Annexe D.3 - Dérive du courant du faisceau d'ions
Bibliographie

La présente Norme internationale donne des lignes directrices sur l'optimisation des paramètres de profilage en profondeur par pulvérisation à l'aide de matériaux mono- et multicouches de référence appropriés affin d'atteindre une résolution en profondeur optimale en fonction des paramètres de l'instrument en spectroscopie des électrons Auger, en spectroscopie de photoélectrons par rayons X et en spectrométrie de masse des ions secondaires. La présente Norme internationale n'est pas prévue pour couvrir l'utilisation de systèmes multicouches spéciaux tels que des couches dopées delta.

DevelopmentNote
Indice de classement: X21-062. PR NF ISO 14606 September 2007. (09/2007)
DocumentType
Standard
PublisherName
Association Francaise de Normalisation
Status
Current

Standards Relationship
ISO 14606:2015 Identical

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