NF ISO 23812 : 2009

Avant-propos
Introduction
1 Domaine d'application
2 Références normatives
3 Termes et définitions
4 Symboles et termes abrégés
5 Exigences relatives aux matériaux de référence
à couches delta multiples
6 Modes opératoires de mesurage
7 Modes opératoires d'étalonnage
  7.1 Principe d'étalonnage
  7.2 Détermination de la vitesse de pulvérisation
      pour un matériau de référence
  7.3 Étalonnage de l'échelle de profondeur pour un
      échantillon pour essai
  7.4 Incertitude de la profondeur étalonnée
8 Expression des résultats
  8.1 Étalonnage dans les mêmes conditions de
      pulvérisation que le matériau de référence
  8.2 Étalonnage utilisant une vitesse de pulvérisation
      différente de celle utilisée pour l'échantillon
      pour essai
  8.3 Étalonnage de la concentration
9 Rapport d'essai
Annexe A (informative) Parcours projeté de l'ion
         d'oxygène dans le silicium
Annexe B (informative) Estimations des décalages de
         pic dus au mixage d'atomes
Annexe C (informative) Estimations du décalage de pic
         dû à la coalescence du pic
Annexe D (informative) Dérivation de l'incertitude
Bibliographie

La présente Norme internationale spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples. La présente Norme internationale ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent. La présente Norme internationale s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.