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NF EN 62047-2 : 2006

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SEMICONDUCTOR DEVICES - MICRO-ELECTROMECHANICAL DEVICES - PART 2: TENSILE TESTING METHODS OF THIN FILM MATERIALS

Published date

12-01-2013

AVANT-PROPOS
1 Domaine d'application
2 Références normatives
3 Symboles et désignations
4 Méthode d'essai et appareillage d'essai
  4.1 Méthode de fixation
  4.2 Méthode de charge
  4.3 Vitesse d'essai
  4.4 Mesure de la force
  4.5 Mesure de l'allongement
  4.6 Courbe contrainte-déformation
  4.7 Controle de l'environnement
5 Éprouvette d'essai
  5.1 Généralités
  5.2 Forme plane de l'éprouvette d'essai
  5.3 Epaisseur de l'éprouvette d'essai
  5.4 Marque repère
6 Rapport d'essai
Annexe A (informative) Méthode de serrage de
          l'éprouvette d'essai
Annexe B (normative) Conditions d'essai
Annexe C (informative) Éprouvette d'essai
Annexe ZA (normative) Références normatives à
          d'autres publications internationales
          avec les publications européennes
          correspondantes

Specifies the method for tensile testing of thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10[mu]m, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices.

DevelopmentNote
Indice de classement: C96-050-2 PR NF EN 62047-2 June 2005. (06/2005)
DocumentType
Standard
PublisherName
Association Francaise de Normalisation
Status
Current

Standards Relationship
DIN EN 62047-2:2007-02 Identical
IEC 62047-2:2006 Identical
EN 62047-2:2006 Identical
BS EN 62047-2:2006 Identical
I.S. EN 62047-2:2006 Identical

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